Получены базовые уравнения метода фундаментальных параметров для рентгенофлуоресцентного анализа тонких покрытий, учитывающих прямое возбуждение и вторичную флуоресценцию. Включение в формулы вторичной флуоресценции особенно важно, если излучение от атомов покрытия (или подложки) может возбуждать атомы подложки (или покрытия). Установлено, что для подложек, содержащих тяжелые элементы, необходимо учитывать их толщину и для вторичной флуоресценции нельзя использовать полное аналитическое выражение интегралов, а необходимо прибегать к численному расчету по углу. Представлены источники справочных данных для коэффициентов массового поглощения и фотопоглощения, вероятностей электронных переходов и флуоресценции, используемых в формулах. Предложены алгоритм определения состава таких покрытий на рентгенофлуоресцентных спектрометрах, настроенных под анализ массивных (без покрытия) образцов, и способы повышения точности расчета.
We obtain the basic equations of the method of fundamental parameters for X-ray analysis of thin coatings with allowance for direct excitation and secondary fluorescence. Introduction of the secondary fluorescence becomes especially important when radiation of the atoms of coating (or substrate) can excite the atoms of the substrate (or coating). We have shown the necessity of taking into account the thickness of substrate films containing heavy elements and incorrectness of using full analytical expression of the integrals for secondary fluorescence instead of numerical calculations by the angle. Sources of the reference data for mass absorption coefficients and photoabsorption, probability of electron transitions and fluorescence used in formulas are indicated. An algorithm for determination of the composition of such coatings on x-ray fluorescence spectrometers configured for analysis of bulk (uncoated) samples, and methods of improving the accuracy of the calculation are proposed.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.