Preview

Заводская лаборатория. Диагностика материалов

Расширенный поиск
Доступ открыт Открытый доступ  Доступ закрыт Только для подписчиков

Исследование примесного состава тетрахлорида кремния методом хромато-масс-спектрометрии

https://doi.org/10.26896/1028-6861-2024-90-3-5-11

Аннотация

В связи с высокими требованиями к чистоте тетрахлорида кремния, используемого в полупроводниковой и оптоэлектронной промышленности, необходима информация о присутствующих в нем примесях. Методом хромато-масс-спектрометрии исследовали примесный состав образцов тетрахлорида кремния, полученных по разным технологиям: хлорированием диатомита и древесного угля, диспропорционированием трихлорсилана и хлорированием изотопно-обогащенного кремния. Для разделения примесей изучена возможность применения капиллярной колонки DB-5MS 30 м × 0,32 мм × 0,25 мкм с метилсилоксаном в качестве неподвижной жидкой фазы. Показано, что при ее использовании большинство установленных веществ элюируется в виде отдельных хроматографических пиков, что упрощает их определение. Исключением являются примеси N2, O2, Ar, CO2, SiF4, CHClF2, HCl и H2S, которые определяли по характеристическим пикам в масс-спектре. Для идентификации примесей экспериментальные масс-спектры сравнивали со спектрами библиотеки NIST и литературными данными. Расширены сведения о примесном составе SiCl4: всего идентифицировано 30 соединений — постоянные газы, алифатические и хлорсодержащие углеводороды, хлориды, серосодержащие вещества, кремнийорганические соединения, из них 19 обнаружено впервые. Получен и описан отсутствующий в литературных источниках масс-спектр C2H6Cl4OSi2. Впервые получены данные о примесном составе изотопно-обогащенного тетрахлорида кремния. Проведено сравнение примесного состава исследованных образцов и определены характерные для каждого из них примеси. Полученные данные могут быть востребованы при разработке технологии глубокой очистки SiCl4 и при его характеристике предприятиями-изготовителями.

Об авторах

А. Ю. Созин
Институт химии высокочистых веществ им. Г. Г. Девятых Российской академии наук; Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
Россия

Андрей Юрьевич Созин, Институт химии высокочистых веществ им. Г. Г. Девятых Российской академии наук

603137, г. Нижний Новгород, ул. Тропинина, д. 49

603022, г. Нижний Новгород, просп. Гагарина, д. 23



О. Ю. Чернова
Институт химии высокочистых веществ им. Г. Г. Девятых Российской академии наук
Россия

Ольга Юрьевна Чернова

603137, г. Нижний Новгород, ул. Тропинина, д. 49



Т. Г. Сорочкина
Институт химии высокочистых веществ им. Г. Г. Девятых Российской академии наук
Россия

Татьяна Геннадьевна Сорочкина

603137, г. Нижний Новгород, ул. Тропинина, д. 49



О. Ю. Трошин
Институт химии высокочистых веществ им. Г. Г. Девятых Российской академии наук; Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
Россия

Олег Юрьевич Трошин

603137, г. Нижний Новгород, ул. Тропинина, д. 49

603022, г. Нижний Новгород, просп. Гагарина, д. 23



А. П. Котков
Акционерное общество Научно-производственное предприятие «Салют»
Россия

Анатолий Павлович Котков

603950, г. Нижний Новгород, ул. Ларина, д. 7



Список литературы

1. Таиров Ю. М., Цветков В. Ф. Технология полупроводниковых и диэлектрических материалов. — СПб.: Лань, 2002. — 424 с.

2. Фурман А. А. Неорганические хлориды. — М.: Химия, 1980. — 416 с.

3. Фалькевич Э. С., Пульнер Э. О., Червонный И. Ф. Технология полупроводникового кремния. — М.: Металлургия, 1992. — 408 с.

4. Патент РФ № 2488462. Власов О. А. Способ получения нанопорошка аморфного диоксида кремния. Опубл. 2013.

5. Прохоров А. М., Дианов Е. М. Лазеры и волоконная оптика / Фотон-экспресс. 2016. Т. 219. № 1. С. 8 – 17.

6. Патент РФ № 2692310. Чурбанов М. Ф., Буланов А. Д., Трошин О. Ю. и др. Способ получения изотопно-обогащенных диоксидов кремния. Опубл. 2019.

7. Трошин О. Ю., Буланов А. Д., Салганский М. Ю. и др. Кварцевый световод на основе изотопно обогащенного 28SiO2 / Неорганические материалы. 2023. Т. 59. ¹ 6. С. 618 – 623. DOI: 10.31857/S0002337X23060143

8. Silicon Tetrachloride Semiconductor. Matheson. 2023. https://www.mathesongas.com/pdfs/puregas/silicon-tetrachloride.pdf (дата обращения 20.10.2023).

9. Тетрахлорид кремния. HORSTechnologies, 2023. https://horst.ru/products/29-sicl4 (дата обращения 20.10.2023).

10. Тетрахлорид кремния высокой чистоты (SiCl4). АО НПП «Салют», 2023. https://nppsalut.ru/product-category/vysokochistye-veshchestva (дата обращения 20.10.2023).

11. Девятых Г. Г., Карпов Ю. А., Осипова Л. И. Выставка-коллекция веществ особой чистоты. — М.: Наука, 2003. — 236 с.

12. Девятых Г. Г., Крылов В. А., Ковалев И. Д. и др. Примесный состав образцов выставки-коллекции веществ особой чистоты / Высокочистые вещества. 1990. № 4. С. 7 – 17.

13. Крылов В. А., Салганский Ю. М., Чернова О. Ю. Высокочувствительное газохроматографическое определение примесей углерод- и водородсодержащих веществ в тетрахлориде кремния / Журн. аналит. химии. 2001. Т. 56. № 9. С. 956 – 961.

14. Крылов В. А., Краснова С. Г., Салганский Ю. М. Газохроматографический метод определения примесей в четыреххлористом кремнии и треххлористом фосфоре. Получение и анализ веществ особой чистоты. — М.: Наука, 1978. С. 190 – 195.

15. Сапрыкин Ю. А., Головко Б. М., Паздерский Ю. А. и др. Хроматографическое определение водорода в хлоридах кремния при помощи высокочастотного эмиссионного детектора / Журн. аналит. химии. 1987. Т. 42. № 11. С. 2017 – 2021.

16. Сапрыкин Ю. А., Головко Б. М., Паздерский Ю. А. и др. Хроматографическое определение углерода в хлоридах кремния с использованием высокочастотного эмиссионного детектора / Журн. аналит. химии. 1986. Т. 41. № 12. С. 2210 – 2214.

17. Девятых Г. Г., Рудневский Н. К., Демарин В. Т. и др. Хромато-атомно-абсорбционное определение примесей трихлорсилана и триметилхлорсилана в тетрахлориде кремния / Журн. аналит. химии. 1981. Т. 36. № 12. С. 2335 – 2338.

18. Девятых Г. Г., Рачков В. Г., Агафонов И. Л. Количественный масс-спектрометрический анализ тетрахлоридов германия и кремния на содержание микропримесей хлоридов некоторых элементов III – V групп / Журн. аналит. химии. 1969. Т. 24. № 3. С. 439 – 442.

19. Агафонов И. Л., Девятых Г. Г. Масс-спектрометрический анализ газов и паров особой чистоты. — М.: Наука, 1980. — 336 с.

20. Kometani T. Y., Wood D. L., Luongo J. P. Infrared spectrophotometric determination of hydrogen-containing impurities in silicon tetrachloride / Anal. Chem. 1987. Vol. 59. N 8. P. 1089 – 1093. DOI: 10.1021/ac00135a005

21. Rand M. J. Purity examination of silicon and germanium halides by long-path infrared spectrophotometry / Anal. Chem. 1963. Vol. 35. N 13. P. 2126 – 2131. DOI: 10.1021/ac6020a043

22. Главин Г. Г., Степанов А. И., Квин В. Е. Хромато-масс-спектрометрическая идентификация высококипящих примесей в тетрахлориде кремния / Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 1981. Т. 47. № 5. С. 12 – 16.

23. А. с. № 211524. Способ непрерывного получения четыреххлористого кремния / Фурман А. А., Мичкова З. И. Опубл. 1968.

24. Гришнова Н. Д., Мочалов Г. М., Гусев А. В. и др. Аналитическая активность анионообменных смол в реакции диспропорционирования трихлорсилана / Журн. прикладной химии. 1999. Т. 72. Вып. 10. С. 1667 – 1672.

25. Воротынцев В. М., Перевощиков В. А., Скупов В. Д. Базовые процессы микро- и наноэлектроники. — Н. Новгород: НГТУ, 2006. — 358 с.

26. Созин А. Ю., Крылов В. А., Чернова О. Ю. и др. Хромато-масс-спектрометрический анализ высокочистых летучих неорганических гидридов / Журн. аналит. химии. 2021. Т. 76. № 5. С. 387 – 398. DOI: 10.31857/S0044450221030129

27. Лебедев А. Т. Масс-спектрометрия в органической химии. — М.: Бином. Лаборатория знаний, 2003. — 493 с.


Рецензия

Для цитирования:


Созин А.Ю., Чернова О.Ю., Сорочкина Т.Г., Трошин О.Ю., Котков А.П. Исследование примесного состава тетрахлорида кремния методом хромато-масс-спектрометрии. Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 2024;90(3):5-11. https://doi.org/10.26896/1028-6861-2024-90-3-5-11

For citation:


Sozin A.Yu., Chernova O.Yu., Sorochkina T.G., Troshin O.Yu., Kotkov A.P. Study of the impurity composition of silicon tetrachloride by gas chromatography-mass-spectrometry. Industrial laboratory. Diagnostics of materials. 2024;90(3):5-11. (In Russ.) https://doi.org/10.26896/1028-6861-2024-90-3-5-11

Просмотров: 443


ISSN 1028-6861 (Print)
ISSN 2588-0187 (Online)