Preview

Заводская лаборатория. Диагностика материалов

Расширенный поиск

РЕНТГЕНОФЛУОРЕСЦЕНТНЫЙ АНАЛИЗ СОСТАВА ТОНКИХ ПОКРЫТИЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МЕТОДА ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ПАРАМЕТРОВ

Аннотация

Получены базовые уравнения метода фундаментальных параметров для рентгенофлуоресцентного анализа тонких покрытий, учитывающих прямое возбуждение и вторичную флуоресценцию. Включение в формулы вторичной флуоресценции особенно важно, если излучение от атомов покрытия (или подложки) может возбуждать атомы подложки (или покрытия). Установлено, что для подложек, содержащих тяжелые элементы, необходимо учитывать их толщину и для вторичной флуоресценции нельзя использовать полное аналитическое выражение интегралов, а необходимо прибегать к численному расчету по углу. Представлены источники справочных данных для коэффициентов массового поглощения и фотопоглощения, вероятностей электронных переходов и флуоресценции, используемых в формулах. Предложены алгоритм определения состава таких покрытий на рентгенофлуоресцентных спектрометрах, настроенных под анализ массивных (без покрытия) образцов, и способы повышения точности расчета.

Об авторах

В. М. Нарцев
Белгородский государственный технологический университет им. В. Г. Шухова
Россия


А. Б. Аткарская
Белгородский государственный технологический университет им. В. Г. Шухова
Россия


Список литературы

1. de Boer D. K. G., Borstrok J. J. M., Leenaers A. J. G. et al. How Accurate is the Fundamental Parameter Approach? XRF Analysis of Bulk and Multilayer Samples / X-Ray Spectrometry. 1993. Vol. 22. P. 33 - 38.

2. Beckhoff B., Kanngießer B., Langhoff N., et al. Handbook of Practical X-Ray Fluorescence Analysis. - Germany: Springer-Verlag Berlin Heidelberg, 2006. - 899 p.

3. Mantler M., Kawahara N. How accurate are modern fundamental parameter methods? / The Rigaku Journal. 2004. Vol. 21. N 2. P. 17 - 25.

4. Афонин В. П., Гуничева Т. H., Пискунова Л. Ф. Рентгенофлуоресцентный силикатный анализ. - Новосибирск: Наука. Сибирское отделение, 1984. -226 с.

5. Henke B. L., Gullikson E. M., Davis J. C. X-Ray interactions: photoabsorption, scattering, transmission and reflection at Е = 50 - 30000 eV, Z =1-92 / Atomic Data and Nuclear Data Tables. 1993. Vol. 54. N 2. P. 181 - 342.

6. X-Ray Mass Attenuation Coefficients. (Электронный ресурс) URL: http://physics.nist.gov/PhysRefData/XrayMassCoef/tab3.html (дата обращения: 14.10.2014).

7. Цветянский А. Л., Еритенко А. Н. Использование интенсивности рассеянного веществом первичного рентгеновского излучения в практике РФА / Электронный научный журнал «Исследовано в России». 2013. Т. 16. С. 286 - 320.

8. Pia M. G., Saracco P., Sudhakar M. Validation of K and L Shell Radiative Transition Probability Calculations / IEEE Transactions on Nuclear Science. 2009. Vol. 56. N 6. P. 3650 - 3661.

9. Sögüt Ö., Büyükkasap E., Küçükönder A., et al. Measurement of vacancy transfer probability from K to L shell usin g K-shell fluorescence yields / Pramana - Journal of Physics. 2009. Vol. 73. N 4. P. 711 - 718.

10. Salvat F., Fernández-Varea J. M., Sempau J. PENELOPE - A Code System for Monte Carlo Simulation of Electron and Photon Transport / Workshop Proceedings Issy-les-Moulineaux. 2003. - 241 p.

11. Kataoka Y., Kawahara N., Arai T., et al. Study of light element analysis of thin films for fundamental parameter method / JCPDS-International Centre for Diffraction Data. 1999. P. 76 - 83.

12. Rousseau R. M. The Quest for a Fundamental Algorithm in X-Ray Fluorescence Analysis and Calibration / The Open Spectroscopy Journal. 2009. Vol. 3. P. 31-42.

13. Mantler M. Quantitative Analysis of Thin Films and Multiple Thin Film Structures by Monte-Carlo Techniques / JCPDS-International Centre for Diffraction Data. 1999. P. 54 - 61.


Рецензия

Для цитирования:


Нарцев В.М., Аткарская А.Б. РЕНТГЕНОФЛУОРЕСЦЕНТНЫЙ АНАЛИЗ СОСТАВА ТОНКИХ ПОКРЫТИЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МЕТОДА ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ПАРАМЕТРОВ. Заводская лаборатория. Диагностика материалов. 2016;82(3):29-35.

For citation:


Nartsev V.M., Atkarskaya A.B. X-ray Fluorescence Analysis of the thin Coatings Using the Method of Fundamental Parameters. Industrial laboratory. Diagnostics of materials. 2016;82(3):29-35. (In Russ.)

Просмотров: 588


ISSN 1028-6861 (Print)
ISSN 2588-0187 (Online)